1、 20617 项目负责人： 蔡锡明 评价人员情况姓 名从事专业职称上岗证号职责签名蔡锡明环境工程高 工环评岗证字第A204026号填表赵永才环评岗证字第204008号审核建设项目基本情况6-8英寸硅抛光片扩产项目法人代表联系人乐永幸通讯地址传真邮编15800建设地点立项审批部门宁波市发改委批准文号甬发改备200558号建设性质新建 改扩建技改 行业类别及代码C41占地面积2268.2绿化面积8276总投资3500（万元）其中：环保投资20万元环保投资占总投资比例.65评价经费 万元预期投产日期206年月工程内容及规模1、项目背景宁波立立电子股份有限公司（以下简称“立立电子”）系由浙江大学半导体
2、学科相关的技术和管理人员共同组建的股份制企业，于200年6月21日在宁波保税区注册成立.五年来，通过贯彻“立信、立德、务实、创新”的理念，遵循着“追求纯净完美,满足顾客期望”的宗旨，致力于重掺系列硅单晶锭、硅抛光片、外延片及复合半导体材料的研制。公司在技术上以浙江大学硅材料科学国家重点实验室、浙江大学半导体材料研究所为依托。并拥有一批高素质的技术骨干,在全部52名员工中,本科以上学历有11人,其中高级职称20人,博士人,硕士40人.公司拥有十多项核心技术发明专利，独创了酸腐蚀工艺、有蜡贴片工艺、多层外延片工艺。公司占地面积万平方米，均按国际一流的生产要求设计,专用厂房最高净化级别为0.1m1级
3、.公司相继通过了瑞士SG公司的I00:20和S000：1998质量体系认证，目前正在推行TS16949/ISO14000的认证工作。公司是国家“86”计划成果产业化基地,国家级重点高新技术企业，设有企业博士后流动站。目前，立立电子已成为中国唯一拥有硅单晶锭、抛光片、外延片、芯片制造的完整产业链的企业。拥有三家控股子公司宁波立立半导体有限公司、杭州立昂电子有限公司和杭州立立科技实业有限公司。立立电子从成立之初的年销售不过0万元、资产总额000万元，经过近五年来的发展成为注册资本金达718万元，股东权益2。16亿元，资产总额。1亿元，年销售达37亿元的公司规模，成为全国七家年产值超亿元的硅材料生产
4、企业之一。目前是国内已建成的最大的4-6英寸重掺砷、磷、锑、硼单晶锭，硅抛光片、外延片的生产基地，生产能力年产单晶锭120吨、抛光片30万片、外延片30万片。产品已提供给国内外一批晶圆厂商，如上海先进、上海新进、上海贝岭、杭州士兰、无锡华晶、美国Faicild、美国IR、美国、日本NEC。 并与国际著名的T公司和美国SEI公司建立了良好的战略合作伙伴关系，市场可以得到保障。在战略远景规划上,公司将通过多种筹资渠道募集资金等来解决发展问题,拟在未来的三年中投入5-亿元人民币技术改造资金，进一步提高重掺单晶硅锭产量和硅外延片生产规模,提高公司在集成电路行业内的核心竞争力,建立中国最大的具有国际影响
5、力的年产30吨8英寸重掺单晶硅锭和20万片4-8英寸重掺系列硅抛光片、140万片8英寸重掺系列硅外延片和0万片英寸功率芯片的生产基地，分别位列全球市场规模的前列， 使公司年销售规模达到810亿元,成为全球半导体材料行业排名前十位的知名供应厂商。力争在经过的230年的努力成长为全球半导体材料一流的制造商。根据我国半导体集成电路市场和半导体材料市场发展需要，宁波立立电子股份有限公司在公司现有厂房和完善的检测设备及处理系统的基础上，扩大6-英寸硅抛光片的生产,根据中华人民共和国环境影响评价法和建设项目环境保护管理条例，为了切实做好环保工作,宁波立立电子股份有限公司委托宁波市环境保护科学研究设计院对该
6、本项目进行环境影响评价工作.2、生产内容及规模根据项目可行性报告，本项目主要进行硅抛光片的生产,项目建成后公司将新增月产25万片6英寸硅抛光片；产品可用于生产MS、双极型集成电路及集成电路外延衬底片等。与本项目有关的原有污染情况及主要环境问题本项目相关企业主要有宁波立立半导体有限公司和宁波立立电子股份有限公司，上述二企业所有公用工程设施为共用,根据硅外延片生产工艺，硅外延片的生产一般可分三步：第一步是单晶硅晶锭的生产，是利用单晶炉将半导体级多晶硅在最高温度达1700的热场中熔化,然后通过籽晶生长在用户所需的直径和电学参数的单晶硅锭；第二步是将硅锭进行切、磨、抛加工，转化成抛光片；第三步在抛光片
7、基础上，在特定的气相反应炉内在硅片的正表面生长一层簿膜加工成外延片。其生产工艺流程分工如下：根据生产分工情况，其二个企业目前主要包括已建工程、在建研发项目、公用工程概况及三废排放情况如下:一、已建工程概况1、宁波立立半导体有限公司生产及污染情况（1）企业概况宁波立立半导体有限公司成立于998年,主要从事单晶硅片的加工生产，由宁波立立电子股份有限公司全资控股。其年生产能力为单晶硅抛光片0万片，注册资本5000万元,职工定员175人。（）生产工艺其生产工艺及排污位置如下：（3）主要设备其主要生产设备如下：序号名称数量单位12英寸切片机31台硅片干燥机16英寸切片机5自动硅片热处理炉63磨片机128
8、高纯水设备30t/h套4倒角机1高纯水设备12硅片清洗机压缩空气系统03h（4）主要原材料消耗主要原材料消耗量如下:用量单晶硅100t/行星片片/27英寸内园刀片100片/a7冷却液40/a16英寸内园刀片2000片/研磨液0/倒角砂轮20片9硅片包装盒20000个研磨砂10t/a根据现有企业实际情况,其生产用水45t/d，纯水用量1td。（5）三废排放情况废水:根据生产工艺调查，生产过程废水产生情况为：切割废水产生量6/d,其废水水质:CD10g/l，10mg/，PH；研磨废水产生量153/d，其废水水质:D610g/l，S1000mg/l,.3；酸碱废水产生量0/d，其废水水质：CO25l
9、，SS100l，PH5.01；清洗废水产生量10td,其废水水质：C210m/l，S0mg/l，0；目前厂内进行清污分流，对生产废水排入废水处理站处理达标后排放。废气:废气主要为腐化工序产生的酸性废气，其主要成份为H、HNO3，其废气排放量主要通过引风机，采用水洗吸收塔吸收处理后通过排气筒排放。现有5套废气处理装置,其每套处理风量为989.5m3/h，其总废气排放量为49475mh.废气经处理后正常运行情况下可以达到GB167199大气污染物综合排放标准。2、宁波立立电子股份公司生产及污染情况（）企业概况宁波立立电子股份有限公司系股份制企业，主要股东是浙江大学半导体学科的专家和技术骨干，公司成
10、立于00年6月，主要经营范围为硅单晶锭、硅单晶抛光片及外延片的制造及销售。注册资本金18万元，总占地面积90亩。建筑面积937m，职工定员1人,公司是目前国内已建成最大的46英寸重掺砷、磷、硼、锑单晶锭、4-英寸硅外延片生产基地；生产厂房面积30002，其中净化面积3300m,最高净化级别0.10级，厂房按国际一流的生产要求设计，一期工程于00年10月正式投产,二期工程用于硅晶体生长于20年3月投入试生产，三期外延厂房于2003年12月竣工.（2）生产工艺单晶硅晶锭生产工艺单晶硅晶锭生产工艺及排污位置如下图：硅外延片生产工艺硅外延片生产工艺及排污位置如下图:（3）主要生产设备单晶硅晶锭生产主要
11、生产设备如下:单晶炉14检测仪器真空泵18冷却塔组割断机高纯水设备2/h滚圆机清洗机硅外延片生产主要设备型号外延炉P2061SP测试仪CV测试仪P测试仪SM2000甩干机TIP测试仪10外延炉尾气处理系统LTV测试仪颗粒度测试仪AD CR81e（）主要原材料消耗单晶硅晶锭生产主要原材料消耗如下:多晶硅4t/a盐酸1.2硝酸2t/a氢氧化钠1。2ta氢氟酸03/其用水量为20/d,其中:工艺用水t/d;冷却水补充30td；生活用水及其它用水3t/d。硅外延片生产主要原料消耗如下:年用量来 源抛光片32万片宁波立立半导体石墨基座只德国SGL石英钟罩意大利LPE三氯氢硅2k美国PRAXAIR,香港特
12、气公司174kg60700Cl7美国RPH3美国RAAIR，香港特气公司B2H6美国RXIR,香港特气公司N2780宁波ESSE阳光公司包装袋13500根据现有企业实际情况,其生产用水8td，纯水用量1t。（5）三废处理及排放情况废气酸性废气：清洗机、化腐机使用氢氟酸、硝酸,由于酸的挥发及与硅的反应产生的酸性废气，其生产过程中集中在密闭槽子内进行，通过引风机引入废气洗涤吸收塔进行处理，其废气排放量为9685m3/.外延炉废气:硅片在外延过程中将产生含氯化氢及浓度极低（pm级）PH3、B2H6的废气，根据可行性研究报告，本项目将采用意大利CIR公司进口的专用外延炉尾气处理塔进行处理。废水切割、滚
13、园研磨废水：切割机、滚园研磨机在对硅片切割、研磨过程中，需采用纯水进行冲洗，将产生含微量硅屑的研磨切割废水，废水量m3/d。酸碱废水：坩锅清洗过程中将产生含硝酸、氢氟酸、氢氧化钠的酸碱废水，废水排放量为/d.含HF、N3酸废液：含HF、HNO酸废液主要来自坩锅清洗工序，其产生量为0.1t/,该废液将排入新建回收槽由供应单位回收处理。3噪声噪声主要来自于生产设备（包括纯水制作设备）运行产生的噪声，产生的噪声在500dB之间；公用动力设备运行产生的噪声,包括空压机房、真空机、水泵等，产生的噪声在68d之间；废水、废气处理设备运行产生的噪声，产生的噪声在505dB之间.冷却水塔运行时产生的噪声,产生
14、的噪声在085d之间。4固体废物根据本项目生产工艺，其固体废物产生情况如下：生产工序中使用的石墨基座废料，其主要成份为废石墨等，年产生量为0ta;二、在建研发工程概况204年根据发改办高技20019号国家发展改革委办公厅关于开展2004年信息产业企业技术进步和产业升级专项可行性研究的通知精神，宁波立立电子有限公司和宁波立立半导体有限公司分别在公司现有超净厂房和完善的检测设备及处理系统的基础上，将从国外引进先进的线切割机等机器设备，并与浙江大学硅材料国家重点实验室合作,再结合公司已有的技术成果和多年的产业化成功经验，经宁波市环境保护局审批建设8英寸抛光硅片技术改造和8-1英寸硅外延片生产的二个研
15、发项目，目前上述二个项目正在建设之中,预计206年底进行试生产,为了明确企业现有情况,本评价对在建项目说明如下：1、8英寸抛光硅片技术改造研发项目（）项目概况该项目总投资42万元，主要进行英寸抛光硅片的生产,项目建成后公司将生产8英寸抛光硅片10万片年。该项目主要从事抛光硅片的生产,主要将单晶硅锭在专用设备上进行切片、磨片、抛光加工生产，加工成抛光硅片，控制其几何尺寸和表面质量，使之能满足外延片生产的要求。其生产工艺流程及排污情况如下：（）主要新增设备根据生产要求，其主要新增生产设备如下表:线切割机00E12瑞士HTC抛光机SPEEDA-59日本SPEEDFAM24-L日本SPEEFAMWGM
16、W420B日本CCTEC干燥机ENE日本SE超声清洗机SST200日本SES检测设备:（）表面颗粒测试仪CR82美国A（2）厚度分选仪ADE700美国ADE（3）厚度分选仪ADE70美国AD（4）主要原辅材料及用量主要原辅材料及用量见下表.80宁波立立电子公司27英寸内园刀片180片南昌威金、美国IFEC5美国UC、山东嘉详碳素厂10美国MIRARAIV100美国RODEL美国OELNALCOt美国ROELNALCO抛光液50美国REL-ALCO1200盐酸（MOS纯）100升江苏江阴润玛、北京化试11NH4OH（MO纯）2000加仑2H2O2（MOS纯）2001氢氟酸（MO纯）150硝酸（分
17、析纯）1201580美国PA16高纯气体Ar5上海宝普1高纯气体00本项目主要在现有生产车间内进行重新布局和增添相应的8英寸生产设备，其污染源分析如下:本项目腐化工序在现有生产车间通风柜内进行,各通风柜均配置相应的引风机、废气水洗吸收塔，从腐化工序所用原料来看，其废气主要为腐化工序产生的酸性/碱性废气，其主要成份为、HNO3、NaOH等,目前,其废气排放量主要通过引风机,采用水洗吸收塔吸收处理后通过排气筒排放。废气经处理后在正常运行情况下可以达到GB167196大气污染物综合排放标准二级标准。本项目建成投产后,其新增工艺废水如下:抛光废水产生量/d,其废水水质：CO15mg/l，SS1000m
18、/l，PH.2；化腐、清洗废水产生量3t/d,其废水水质：COD210/l,S10/l,P4；噪声噪声主要来自于生产设备运行产生的噪声,其噪声源强如下：切片机0dB、研磨机75d、清洗机77dB、热处理机2dB、空压机0d、纯水制备080B之间;公用动力设备运行产生的噪声，包括空压机房、真空机、水泵等，产生的噪声在608dB之间；废水、废气处理设备运行产生的噪声，产生的噪声在508之间。固体废物化学腐蚀过程产生的腐化废液,其主要成份为HNO3、H等，年产生量为15t/；污水处理站混凝沉淀后产生污泥,根据废水中SS浓度,确定其污泥排放量为12t。2、12英寸硅外延片生产研发项目概况（1）项目概况
19、该项目总投资19435万元，主要进行硅外延片的生产，项目建成后公司将生产英寸硅外延片24万片/年（折合6英寸P型/N型单层/多层硅外延片42.7万片/年）;同时开发1英寸硅外延片,形成小批量生产能力。本项目主要涉及第三步生产工艺，硅外延片生产工艺流程及排污情况如下：（3）主要新增设备根据生产要求，其主要生产设备如下表:HT204PP测试仪HT30C-V测试仪495CN激光打标机R测试仪SS-2000FT测试仪8NR20DCR81主要原辅材料及用量见下表。备 注8英寸衬底片24立立电子提供三氯氢硅气体g美国RXAIR，香港特气公司盐酸（试剂级）瓶（500ml/瓶）氨水（试剂级）（50ml/瓶）双
20、氧水（试剂级）5（500m瓶）HCl10美国PPPH3美国PAAR，香港特气公司2H美国PRAAIR，香港特气公司1N590003宁波MESR阳光公司洁净包装袋1000130#柴油2128定额用量266g/h本项目主要为增设外延炉及其相关检测设备，其污染源分析如下：酸、碱性废气:酸、碱性废气主要来自外延片钟罩机架清洗工序，清洗工序主要使用盐酸、氨水、过氧化氢，由于盐酸、氨气的挥发产生的酸、碱性废气,其生产过程中集中在密闭槽子内进行,通过引风机引入废气洗涤吸收塔进行处理,其废气排放量为100m3/h。外延炉废气：硅片在外延过程中将产生含氯化氢及浓度极低（ppm级）PH3、B26的废气,根据可行性研究报告，本项目将采用意大利CI公司进口的专用外延炉尾气处理塔进行处理。生产废水酸、碱废水:外延片清洗机使用盐酸、氨水、双氧水清洗硅片，清洗废水含有一定的盐酸、氨水及废气吸收废水,废水排放量为。d。噪声主要来自于生产设备（包括纯水制作设备）运行产生的噪声，产生的噪声在5080B之间;公用动力设备运行产生的噪声，包括空压机房、真空机、水泵等,产生的噪声在085d之间;废水、废气处理设备运行产生的噪声,产生的噪声在085B之间。冷却水塔运行时产生的噪声，产生的噪声在685dB之间.根据本项目生产工艺，其固体废物产生情况如下:生产工序中使
