从电路图到创建层.docx
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从电路图到创建层.docx
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从电路图到创建层
从电路图到创建层
这个例子说明了如何使用MWO从电路图创建一个图层。
它包含一下几个步骤:
●导入层处理文件LPF
●编辑数据库单元和缺省的栅格尺寸
●导入单元库
●在电路图中导入和放置数据文件
●改变电路符号
●在放置层的微带线
●指定电路元件中的ARTWORK单元
●查看分层
●创建ARTWORK单元
●描定层单元
●在层中巧妙处理MTRACE文件
●层中的Snapping功能
●导出层
创建新项目:
选择File>NewProject;
选择File>SaveProjectAs,显示保存对话框
输入项目名(如"layout_example"),然后单击Save保存;
导入层处理文件:
层处理文件LPF定义了层试图的缺省设置,包括绘制层、层映射、三维视图和电磁视图绘制。
在窗口的左下方单击Layout键显示层管理器;
在层管理器中右击LayerSetup,选择ImportProcessDefinition,显示打开的对话框;
查找目录然后双击打开C:
\ProgramFiles\AWR\AWR2002(这是缺省的MWO的安装文件目录。
如果你改变了缺省的安装目录,那么你双击安装MWO的目录打开);
单击选择文件MIC_English.lpf再单击Open打开。
层管理器的下面的透明窗口如下显示:
编辑数据库单元和缺省的网格尺寸:
数据库单元被定义为层中精密度最高的单元。
这个参量在曾经设置的参量中是不会改变的。
改变数据库单元会产生舍入误差导致层文件的问题。
网格尺寸很重要因为许多集成电路设计必须依附于网格。
网格必须大于等于数据库单元。
因为乘法器最小的单元是1X,推荐使用网格为数据库单元的10倍。
这是预防比数据库单元更小的网格。
选择Options>LayoutOptions;
在GridSpacing栏输入".1",Databaseunitsize栏输入".01",然后单击OK确定;
导入GDSII单元库:
在MWO中单元库常被用来提高印制电路板和混合设计程序中的物理包和动力包,包括用在MMIC和RFIC设计程序上的标准ARTWORK单元。
MWO提供绘图工具的GDSII文件格式和传统格式。
右击层管理器中的CellLibraries,选择ReadGDSIILibrary;
在C:
\ProgramFiles\AWR\AWR2002目录中,双击并打开它;
双击子目录Examples,然后双击子目录中的QuickStart;
单击文件packages.gds并点击Open打开,在层管理器中显示导入的单元库。
如果出现警告窗口,点击OK;
导入数据文件:
在窗口左下方单击Proj;
右击项目浏览窗口的DataFiles,选择ImportDataFile。
显示打开的对话框;
打开目录C:
\ProgramFiles\AWR\AWR2002并双击打开;
双击子目录Examples,双击子目录中的QuickStart;
选择文件N76038a.s2p并点击Open打开;
在电路图中放置数据文件:
右击项目浏览窗口中的CircuitSchematics,选择NewSchematic。
显示创建新的电路对话框;
输入"qslayout"并点击OK;
在窗口左下方单击Elem键显示元件浏览窗口;
单击位于Subcircuits的滚动条,然后单击。
子目录显示在下面的窗口;
单击模型N76038a,向上拖动鼠标,拖动元件到电路图窗口,释放鼠标放置元件,然后单击放置,如下图;
改变数据文件的地节点:
你可能偶尔需要改变地节点因为你能只连接ARTWORK单元和拥有相同节点数的元件。
右击电路窗口的子电路元件。
显示元件选项对话框;
单击Ground键;
选择Explicitgroundnode然后单击OK;
改变元件符号:
子电路符号可以由FET来代替,所以你能看到哪个节点对应的栅极、源极、漏极。
双击电路窗口中的子电路元件,显示元件选项对话框;
单击Symbol键;
再选择FET@system.syf,然后单击确定;
放置层微波传输带:
微波传输带元件有缺省的和各个元件相连的层单元。
层单元是每个参数的定义值的参数化和动力尺寸。
MWO有专门的微波传输带元件叫Icells(单元),它不需要任何元件的参量值。
从连接的元件中Icells自动地继承了必须的参量。
单击窗口左下方的Elem键显示元件浏览窗口;
双击元件浏览窗口的Microstrip;
单击左边窗口的Lines显示线性模型;
单击MLIN模型,移动鼠标往下,拖动元件到电路窗口,释放鼠标。
放置元件在支电路N7068a的节点1,再单击放置;
现在在元件浏览窗口中下单击。
在下面窗口显现模型;
提示:
元件名末尾显示”$”是从连接的端口中继承他们的特性。
元件名末尾显示”X”表示由一般电磁模型的查询制表所创建的。
"MTEEX$"名字是电磁模型的查询制表所连接的端口而来的微波传输线的T型连接。
单击MTEE$模型,向下移动鼠标,拖动元件到电路窗口中,释放鼠标,放置元件与MLIN元件相连,如下图所示。
单击Microstrip下的Lines,单击左下方的MTRACE模型,同上把元件放置到电路图中;
单击左下方的MLEF模型,再次把放置到电路图上;
双击电路图窗口中MTRACE元件显示元件选项对话框;
编辑参数值如下图,再单击OK确定。
重复上面的步骤编辑MLIN和MLEF元件的参数值如下图所示;
单击Substrates元件浏览窗口中的,显示子层模型;
单击MSUB模型,同上把它放置到电路图中;
双击电路图窗口的MSUB元件显示编辑元件对话框,编辑MSUB参数值如下图所示,然后再单击OK确定。
单击工具栏上的Port按钮,把它放置到MTRACE元件的左节点,与之相连;
再单击工具栏上的Port按钮,把它放置到SUBCKT元件的2节点上与之相连;
再单击工具栏上的Ground按钮,把地放置到SUBCKT元件的3节点上与之相连。
指定电路图中的ARTWORK单元:
ARTWORK单元代表了被指定到电路元件的包层。
双击电路窗口中的N76038a子电路元件显示元件选项对话框;
单击Layout键;
在Compatiblecells选择Alpha_212_3,然后单击OK确定。
查看层:
电路图和层是对同一个数据库的不同视角。
电路图中参量值的任何编辑立即的在层中进行修正,反之亦然。
单击电路图窗口使之成为活动窗口;
选择Schematic>ViewLayout,显示层窗口;
选择Edit>SnapTogether连接ARTWORK单元的各个面。
提示:
单击工具栏上的按钮显示层的图示。
描定层单元:
在查看层时层单元有各种刀具来决定每个层之间的连接。
其中最重要的一种方法就是描定。
描定层单元来把层放置在使当的位置使它不能因snapping功能而移动。
一个描定的层单元传统上用在层中定义的参考点上。
单击指定的ARTWORK单元Alpha_212_3,右击选择ShapeProperties来显示层选项对话框。
单击键,选择,然后单击确定。
ARTWORK单元现在就有一个如下的描定图标。
创建一个ARTWORK单元:
单击工具栏上的SetGridSnapMultiple按钮设置为10X;
单击Layout键使之成为活动的层管理器;
右击Packages选择NewLayoutCell,创建新的层单元对话框;
命名为"chipcap"然后单击OK确定。
一个绘图窗口显示在工作区域中;
单击下面窗口左列的copper方框使copper成为活动层(不要单击定义隐藏或显示的电灯泡)。
选择Layout>Rectangle;
滑动指针按下Tab键,显示输入坐标对话框;
在X和Y中分别输入值为"0"和"10",然后单击确定。
再按下"Tab"键显示输入坐标对话框;
并在dx和dy栏中分别输入"10"和"-10",然后单击OK确定。
结果如下图。
单击左下方窗口的左列Footprint方框,使Footprint为活动窗口;
单击绘图窗口使它成为当前窗口;
选择Layout>Rectangle;
移动鼠标在绘图窗口然后单击TAB键,显示输入坐标对话框;
分别在X和Y的值上输入"10"和"10"然后单击OK确定;
再按下TAB键显示输入坐标对话框然后单击OK确定;
再在dx和dy的值上输入"20"和"-10"单击确定。
最后的图形显示如下:
在绘图窗口单击copper方框,然后按复制和粘贴,把它粘贴在矩形框的右边;
在ARTWORK单元添加端口:
在ARTWORK单元编辑器的端口定义了其他层单元连接的面。
端口的箭头方向决定了它与临近的层单元的连接方向。
选择;
移动鼠标到绘图窗口中,按CTRL键在正方形左下角点移动鼠标直到左下角出现一小方框,不放开CTRL键。
CTRL键仍然按下不动,在那个点单击鼠标不放拖动到上面的定点出现小方框后松开鼠标,再松开CTRL键
重复前面三个步骤在图纸相反的边上放置另外一个端口,但这个端口是从上定点往下面的点拖放
单击chipcap窗口右上角的X,弹出对话框询问是否保存单元编辑,单击Yes保存。
编辑电路指定chipcap单元:
单击电路图中的端口1;
按下CTRL键不动,单击它拖动远离MTRACE,如下图所示。
在窗口左下方单击Elem键显示元件浏览窗口;
双击LumpedElement然后单击Capacitor显示下面的capacitor模型;
单击CAP模型,把它放置在电路图上端口1和MTRACE元件之间;
双击电路图中CAPC1元件,显示元件选项对话框;
再单击Layout键。
选择Compatiblecells下的chipcap,然后单击OK;
选择Schematic>ViewLayout,在工作区域显示新的层。
层和相应的电路图如下所示。
连接层中的MTRACE元件:
MTRACE元件是一种能够在层视图中被编辑成微波传输线的特殊元件。
在层视图中双击MTRACE元件使蓝色正方形框处于活动状态,如下图所示;
移动鼠标到最右边的正方形显示箭头符号,再双击routing使它成为活动状态;
移动布线工具到所需要的点然后单击放置(右击鼠标删除最后一个点;按下ESC键取消活动状态);
通过滑动布线工具继续布置点再单击放置,最后双击完成布线。
提示:
MLIN元件是直的元件,你可以在层中改变它的宽度。
你也可以在层中编辑MTRACE元件来创建弯曲角和斜面。
层单元的连接功能:
连接功能可以连接各种结构中ARTWORK单元。
MWO2002的层选项对话框中有新的连接选项。
选择Options>LayoutOptions,显示层选项对话框;
在LayoutCellSnapOptions中选择Manualsnapselectedobjectsonly,再单击OK确定
移动层单元使他们互相分开,在连接选项改变能够查看。
单击层单元MLEF,移动鼠标并拖动它到新的位置,再单击放置。
如下图:
重复上面的步骤变化MTRACE和chipcap单元。
如下放置层单元:
红线表明层单元的面还没有连接在一起。
选择一组层单元连接在一起。
按下CTRL键不懂,然后在层窗口选择MLEF,MTRACE,和MTEE$层单元。
单击工具栏上的SnapTogether按钮,观察chipcap层单元和MLIN层单元没有被连接在一起。
连接所有的面:
按下键盘上的Ctrl+A选择所有的层单元,单击工具栏上的SnapTogether按钮,层如下显示:
"snaptofit"功能完成了MTRACE层单元和指定的临近层单元的布线。
在这个例子上,chipcap单元将被移动,MTRACE单元将重新与chipcap面布线。
如下放置chipcap的ARTWORK单元:
选择MTRACE单元,按下Ctrl键选择chipcapARTWORK单元;
单击工具栏上的按钮,MTRACE将按下图布线与chipcapARTWORK单元相连接。
导出层文件:
选择Options>DrawingLayers定义导出的文件层,显示层设置对话框;
单击ExportMapping键;
单击对话框底部的DXF键,取消选择所有的绘图层只除了中的WriteLayers层,然后单击OK确定。
选择Layout>ExportLayout,显示保存对话框;
在SaveAsType选择DXF(Flat*.dxf);
在Filename输入"myfile",单击Save导出文件层为DXF文件。
层仿真的例子完成了,你可以选择File>SaveProject来保存层项目。
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- 电路图 创建