SEM基本结构及工作原理.docx
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SEM基本结构及工作原理
SEM基本结构及工作原理
SEM
SEM基本结构及原理
1电子束与样品表面的作用
弹性散射:
电子束的能量不损失,只改变方向,如背散射电子。
非弹性散射:
入射电子熟不进改变方向,也改变能量。
包括二次电子,俄歇电子,特征X射线,荧光。
图1电子束与样品的作用深度示意图
SEM
1.1二次电子Secondaryelectron
二次电子是指背入射电子轰击出来的核外电子。
由于原子核和外层价电子间的结合能很小,当原子的核外电子从入射电子获得了大于相应的结合能的能量后,可脱离原子成为自由电子。
如果这种散射过程发生在比较接近样品表层处,那些能量大于材料逸出功的自由电子可从样品表面逸出,变成真空中的自由电子,即二次电子。
二次电子来自表面5-10nm的区域,二次电子的逃逸深度很小,在入射电子束处,约为5λ,金属λ=1nm,非金属λ=10nm。
图2二次电子产量与逃逸深度关系
能量为0-50eV。
它对试样表面状态非常敏感,能有效地显示试样表面的微观形貌。
由于它发自试样表层,入射电子还没有被多次反射,因此产生二次电子的面积与入射电子的照射面积没有多大区别,所以二次电子的分辨率较高,一般可达到5-10nm。
扫描电镜的分辨率一般就是二次电子分辨率。
二次电子产额随原子序数的变化不大,它主要取决于表面形貌,呈以下关系:
δ(θ)=δ0Secθ
图3二次电子产量与样品倾斜角度关系
θ增大时δ增大,样品表面的起伏形貌与样品倾转原理一样,形成形貌衬度。
入射电子与样品核外电子碰撞,使样品表面的核外电子被激发出来的电子,是作为SEM的成像信号,代表样品表面的结构特点。
SEM
图4二次电子的检测示意图
1.2背散射电子backscatteredelectron
背散射电子是由样品反射出来的初次电子,是弹性散射返回来的电子,其主要特点是:
能量很高,有相当部分接近入射电子能量,总能量约占入射点子能量的30%,在试样中产生的范围大,像的分辨率低。
背散射电子发射系数随原子序数增大而增大。
作用体积随入射束能量增加而增大,但发射系数变化不大。
背散射电子的原子序数衬度:
图5背散射电子产量与原子序数关系
图6背散射电子产量与入射束能量关系
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背散射电子的形貌衬度:
背散射电子同样也存在样品倾转是的形貌衬度效应,如图所示,低角度变化不明显,高角度衬度较好。
图7背散射电子产量与样品倾斜角度关系
背散射电子的空间分布:
背散射电子在空间的分布满足一下关系,当入射束沿样品表面法线方向入射时:
η(φ)=ηnCos(η
)
图8背散射电子的空间分布示意图
当样品倾转时,则变成以下情况:
空间分布变成椭圆形状,特别是大于80度是的倾转。
图9样品倾转时背散射电子的空间分布
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1.3俄歇电子Augerelectron
原子内层电子被激发产生空穴后,高能级的院子跃迁到这一能级,如果原子内层电子能级跃迁过程中释放出来的能量不是以X射线的形式释放而是用该能量将核外另一电子打出,脱离原子变为二次电子,这种二次电子叫做俄歇电子。
因每一种原子都由自己特定的壳层能量,所以它们的俄歇电子能量也各有特征值,能量在50-1500eV范围内。
俄歇电子是由试样表面极有限的几个原子层中发出的,这说明俄歇电子信号适用与表层化学成分分析。
1.4特征X射线
产生二次电子后留下的空穴引起高能级原子的跃迁,跃迁过程中释放的能量以X射线形势释放出来。
2扫描电子显微镜的结构
扫描电镜的基本结构可分为电子光学系统、机械系统、真空系统、样品所产生的信号收集、处理和显示系统。
图10扫描电子显微镜结构图
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2.1电子光学系统
这个系统包括电子枪、电磁聚光镜、扫描线圈和光阑组件。
电子枪的作用是产生电子照明源,它的性能决定了扫描电镜的质量,商业生产扫描电镜的分辨率可以说是受电子枪亮度所限制。
电子枪及分类
根据朗谬尔方程,如果电子枪所发射电子束流的强度为I0,则它有如下关系存在:
I0=β0π2G02α2/4
式中α-电子束的半开角;
G0-虚光源的尺寸;
β0-电子枪的亮度。
根据统计力学的理论可以证明,电子枪的亮度β0是由下式来确定:
β0=Jk(eV0/πkT)①
式中Jk-阴极发射电流密度;
V0-电子枪的加速电压;
k-玻尔兹曼常数;
T-阴极发射的绝对温度;
e-电子电荷。
在热电子发射时,阴极发射电流密度Jk可以用如下公式来表示:
Jk=A0Texp(-eφ/kT)②
式中A0-发射常数;
φ-阴极材料的逸出功。
从公式①和公式②可以看出,阴极发射的温度越高,阴极材料的电子逸出功越小,则所形成电子枪的亮度也越高。
电子枪的类型
为了获得较高的信号强度和扫描像,由电子枪发射的扫描电子束应具有较高的亮度和尽可能小的束斑直径,常用的电子枪有三种:
普通热阴极三级电子枪(阴极材料是钨丝(直径大约0.1~0.15mm),制成发夹式或针尖式形状,并利用直接电阻加热来发射电子)六硼化镧阴极电子枪和场发射电子枪,前两种属于热发射电子枪,后一种属于冷发射电子枪,也叫场发射电子枪。
场发射电子枪亮度最高,电子源直径最小,是高分辨本领扫描电镜的理想电子源,价格较昂贵。
阴极材料是用(310)位向的钨单晶针尖,针尖的曲率半径大约为100nm。
它是利用场致发射效应来发射电子的。
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从电子枪构造示意图可以看到热电子发射型电子枪和热阴极场发射电子枪(FEG)的区别在于:
热电子发射型电子枪在紧靠灯丝下面有一个韦氏极,在韦式极上加一个比灯丝更负的电压,这个电压称为偏压(biasvoltage),这个偏压控制了电子束流和它的扩展状态;而对于热阴极场发射电子枪,不采用韦式极,而是用吸出极和静电透镜。
图11电子枪构造示意图
目前商业生产的扫描电镜大多是采用发夹式钨灯丝电子枪的。
影响电子枪发射性能的因素(依据于所发射电子束的强度Jk):
(1)灯丝阴极本身的热电子发射性质(如电子逸出功,几何形状等);
(2)灯丝阴极的加热电流。
试验表明,发射电流强度是随着阴极加热电流的增加而增加的;
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(3)灯丝尖端到栅极孔的距离h。
一般来说α角越大,故可以获得较大的电子束强度,但灯丝的寿命却越短;
(4)阳极的加速电压V0。
因为灯丝的亮度是同加速电压V0成正比的,故高的加速电压可以获得较大的发射电流强度。
透镜系统
1.基本要求
透镜系统的作用有三:
(1)把虚光源的尺寸从几十微米缩小到5nm(或更小),并且从几十微米到几个纳米间连续可变;
(2)控制电子束的开角,可以在10-2~10-3rad范围内可变;(3)所形成的聚焦电子束可以在试样的表面上作光栅状扫描,且扫描角度范围可变。
为了获得上述扫描电子束,其透镜系统通常是由电磁透镜,扫描线圈和消像散器等组成。
采用电磁透镜的优点是:
这种透镜可以安置在镜筒外面,可避免污染和减小真空系统的体积,而且透镜的球像差系数较小。
2.透镜系统的结构类型
目前扫描电镜的透镜系统有三种结构:
(a)双透镜系统;(b)双级励磁的三级透镜系统;(c)三级励磁的三级透镜系统。
其中以三级励磁透镜系统具有较多优点,其理由如下:
(1)多一级透镜的效果是使电子束的收缩能力更强,对原始光源的尺寸要求不高,仍可以获得小于5nm的电子束斑;
(2)电子光学系统具有较大的灵活性,便于形成各种扫描式的光路,特别是要形成单偏转摇摆扫描式的光路(这是一种获得选区电子通道花样的光路),只有用三个独立可调的透镜系统才有可能做到。
3.末级透镜的结构
在扫描电镜中,前级透镜的作用是聚光镜,把从电子枪所发射出的电子束聚成足够细的束斑,而末级透镜的作用是物镜,末级透镜的像差直接影响成像的分辨率,因此,在末级透镜的设计上,如何降低其球像差是主要任务。
装在末级透镜中的像散校正装置是采用八极式电磁消像散器,其用途是消除由于透镜污染(其效果是导致像场的畸变)所产生的像散。
在扫描电镜中,从下极件到试样上表面的距离(沿光轴方向量)习惯称为工作距离。
经验表明,工作距离对扫描电子像的像差有很大影响,如表2-4所示
因此,双偏转线圈的安装位置十分重要。
为了可以获得小的工作距离,最好把扫描线圈装在透镜中物空间的位置。
末级透镜光阑的作用是控制电子束的开角,从而控制图像的景深(它与电子束开角的大小成反比)。
如果观察图像时所采用的工作距离为D,光阑孔径为a,则电子束的开角2α由下式来确定:
2α=a/D
扫描电镜的工作距离越大,2α越小,相应焦深越大。
由于扫描电镜的焦深大,故所得图像最富有立体感,特别宜于观察高低不平表面。
扫描线圈
其作用是使电子束偏转,并在样品表面做有规则的扫动,电子束在样品表面
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的扫面的扫描动作和在显像管上的扫描动作保持严格同步,因为他们由同意扫描发生器控制的,图中所示电子束在样品表面进行扫描方式两种。
进行形貌分析时都采用光栅扫描方式,。
当电子束进入偏转线圈时,方向发生转折,随后又由下偏转线圈使它的方向发生第二次转折,发生二次偏转的电子束通过末级透镜的光心射到样品表面。
在电子束偏转的同时还带由一个逐行扫描动作,电子束在上下片偏转线圈的作用下,在样品表面扫描出方形区域,相应的在样品上也画出一副比例图像。
样品上各点收到的电子束轰击是发出的信号可由信号探测器接受,并通过显示系统在显像管荧光屏上按强度扫描出来。
如果电子经上偏转线圈转折后未经下偏转线圈改变方向,而直接由末级透镜折射到入射点的位置,这种扫描方式称为角光栅扫描货摇摆扫描,入射束被上偏转线圈转折的角度越大,则电子束在入射点上摆动的角度也越大。
扫描电镜的放大倍率是通过改变电子束偏转角度来实现放大倍率的调节,因为观察用的荧光屏尺寸是一定的,所以电子束偏转角度小,在试样上扫描面积越小,其放大倍率M越大。
一般放大倍数为20-2022年00倍。
图12电子束在样品表面上的扫描方式
2.2机械系统
这个系统主要包括支撑部分和样品室。
样品室中有样品台和信号探测器,样品台除了能夹持一定尺寸的样品,还能是样品做平移、倾斜、转动等、同时样品还可在样品台上加热、冷却和进行力学性能试验(拉伸和疲劳)
样品室
在扫描电镜中,一个理想的样品室,在设计上要求如下:
(1)为了试样能进行立体扫描,样品室空间应足够大,以便放进试样后还能进行旋转360°,倾斜0~90°和沿三度空间做平移动作,并且能动范围越大越好;
(2)在试样台中试样能进行拉伸、压缩、弯曲、加热或深冷等,以便研究一些动力学过程;(3)
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试样室四壁应有数个备用窗口,除安装电子检测器外,还能同时安装其它检测器和谱仪,以便进行综合性研究;(4)备有与外界接线的接线座,以便研究有关电场和磁场所引起的衬度效应。
近代的大型扫描电镜均备有各种高温、拉伸、弯曲等试样台,试样最大直径可达100mm,沿X轴和Y轴可各自平移100mm,沿Z轴可升降50mm。
此外,在样品室的各窗口还能同时联接X射线波谱仪、X射线能谱仪、二次离子质谱仪和图像分析仪等。
2.3真空系统
真空系统在电子光学仪器中十分重要,这是因为电子束只能在真空下产生和操纵。
对于扫描电镜来说,通常要求真空度优于10-3~10-4Pa。
任何真空度的下降都会导致电子束散射加大,电子枪灯丝寿命缩短,产生虚假的二次电子效应,使透镜光阑和试样表面受碳氢化合物的污染加速等等,从而严重的影响成像的质量。
因此,真空系统的质量是衡量扫描电镜质量的参考指标之一。
常用的高真空系统有如下三种:
(1)油扩散泵系统。
这种真空系统可获得10-3~10-5Pa的真空度,基本能满足扫描电镜的一般要求,其缺点是容易使试样和电子光学系统的内壁受污染。
(2)涡轮分子泵系统。
这种真空系统可以获得10-4Pa以上的真空度,其优点是属于一种无油的真空系统,故污染问题不大,但缺点是噪音和振动较大,因而限制了它在扫描电镜中的应用。
(3)离子泵系统。
这种真空系统可以获得10-7~10-8Pa的极高真空度,可满足在扫描电镜中采用LaB6电子枪和场致发射电子枪对真空度的要求。
关于上述三种真空系统的性能比较如表2-3所示。
目前商品生产的扫描电镜,多采用油扩散泵系统,为了减轻污染程度和提高真空度,常在油扩散泵上方安装一个液氮冷阱,从而大大改善真空系统的质量。
在更换样品时,阀门会自动使样品室与镜筒部分隔开;更换灯丝是也可以将电子枪室与整个镜筒隔开,这样保持镜筒部分真空不被破坏。
2.4信号的收集、处理和显示系统
样品在入射电子束的作用下会产生各种物理信号,有二次电子、背散射电子、特征X射线、阴极荧光和透射电子,不同的物理信号要用不同类型的检测系统。
大致可以分为三大类,即电子检测器、阴极荧光检测器和X射线检测器。
下面介绍二次电子的信号检测和放大系统。
常用的检测系统为闪烁计数器,它位于样品上测,由闪烁体,光导管和光电倍增器所组成,如图所示,闪烁体一端加工成半球形,另一端与光电管连接,并在半球形的接收端上喷镀几百埃厚的铝膜作为反光层,既可阻挡杂散光的干扰,又可作为高电压电极加6-10KV正高压,吸引和加速进入栅网的电子。
另外在检
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测器前段栅网上加250-500V正偏压,吸引二次电子,增大检测有效立体角。
这些二次电子不断装机闪烁体,产生可见光沿逛到管先到光电倍增器进行放大,输出电信号可达10mA左右,在经视频放大器稍加放大后作为调制信号,最后转换为在阴极射线管荧光屏上显示的样品表面形貌扫描图像,供观察和照相记录。
通常荧光屏有两个,一个供观察用,一个供照相用了或者一个供高倍观察用,一个供低倍观察用。
图13电子检测器
3扫描电子显微镜的工作原理
电子枪的热阴极或者场发射阴极发出的电子受样机电压(1-50KV)加热并形成笔尖状电子束,其最小直径为10-50um量级(场发射枪中位100-1000埃)。
经二或三个电磁透镜的作用,在样品表面汇聚成一个直径可小至10-100埃的细束,称为电子探针,携带束流量为10-10-10-12A。
有时根据某些工作模式的要求,束流可增至10-8-10-9A,相应的束直径将变为0.1-1um。
在末透镜上部的扫描线圈作用下,细电子束在用品表面做光栅状扫描,即从左上方向右上方扫,扫完一行在扫其下相邻的第二行,知道扫完一副(或帧)。
如此反复运动。
4扫描电镜的调整
4.1电子束合轴
处于饱和的灯丝发射出的电子束通过阳极进入电磁聚光系统。
通过三级聚光镜及光阑照射到样品上,只有在电子束与电子光路系统中心合轴时,才能获得最大的亮度。
调整电子束对中(合轴)的方法有机械式和电磁式。
机械式是调整合轴螺钉,电磁式则是调整电磁对中线圈的电流,以此移动电子束相对光路中心位置达到合轴目的。
这是一个细致工作,要反复调整通常在荧光屏幕上得到最亮的图像为止。
4.2放入试样
将试样固定在试样盘上,并进行导电处理,是试样处于导电状态。
将试样盘装入样品更换室,预抽三分钟,然后将样品更换室阀门打开,将试样盘放在样品台上,在抽出试样盘的拉杆后关闭隔离阀。
4.3具体控制参数的选择
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在日常操作中,经常要进行选择和调节的控制参数有:
电子的加速电压、透镜的励磁电流、工作距离、末级透镜光阑孔径和帧扫描时间等。
加速电压
扫描电镜的分辨率随着加速电压的增大而提高,但其衬度随电压增大而降低,并且加速电压过高污染严重,加速电压越大,电子探针容易聚焦得更细,故采用高的加速电压对提高图像的分辨率和信噪比是有利的。
但是,如果观察的对象是高低不平表面或深孔,为了减小入射电子探针的贯穿深度和散射体积,从而改善在不平表面上所获得图像的清晰度,采用较低的加速电压是适宜的。
对于容易发生充电的非导体试样或容易烧伤的生物试样,则宜采用低的加速电压。
所以一般在20KV下进行初步观察,而后根据不同的目的选择不同的电压值。
透镜的励磁电流
电子探针的高斯斑尺寸是随着透镜电流的增加而减小的,聚光镜电流越大,放大倍数越高,同时,聚光镜电流越大,电子束斑越小,相应分辨率高,因此,高的透镜电流对提高图像的分辨率是有利的,但对信噪比不利。
如果用低的透镜电流则刚好相反。
为了兼顾这种矛盾,一般方法是:
(1)先选取中等水平的透镜电流;
(2)如果对观察试样所采用的观察倍数不高,并且图像质量的主要矛盾是由于信噪比不够,则可以采用较小的透镜电流值;(3)如果要求观察的倍数较高,并且图像质量的主要矛盾是在分辨率,则应逐步增加透镜电流。
工作距离
为了获得高的图像分辨率,采取小的工作距离的观察条件是可取的。
但如果要观察的试样是一种高低不平的表面,要获得较大的焦深,采用大的工作距离是必要的,但要注意图像的分辨率将会降低。
光阑选择
光阑空一般式400u、300u、200u、100u四个档次,光阑孔径越小,景深越大,分辨率也高,但电子束流会减小。
一般在二次电子像观察中选用300u或200u的光阑。
聚焦与像散的校正
在观察样品时要保证聚焦准确才能获得清晰的图像。
聚焦分粗调、细调两步。
由于扫描电镜景深很大。
焦距长,所以一般采用高于观察倍数二、三档进行聚焦,然后再过来进行观察和照相。
即所谓高倍聚焦,低倍观察。
像散主要是电磁聚光镜不对称造成的。
尤其是当极靴孔变为椭圆时造成的,此外镜筒中光阑的污染和不导电材料的存在也会引起像散。
出现像散时在荧光屏上产生的像漂移,其漂移方向在过焦及欠焦时相差90°,像散校正主要是调整消散器,使其电子束轴对称直至图像漂移为止。
亮度与对比度的选择
要得到一副清晰的图像必须选择适当的亮度与对比度。
二次电子像的对比度受试样表面形貌凹凸不平引起二次电子发射数量不同的影响。
通过调节光电倍增管的高压来控制光电倍增管的输出信号的强弱,从而调节了荧光屏上的图像的反差,亮度的调节时调节前置放大器的直流电压,使荧光屏上图像亮度发生变化。
反差和亮度的选择则是当试样凹凸严重时,衬度可选择小一些,以达到明亮对比清洗,使暗区的细节也能观察清楚。
也可以选择适当的倾斜角度,以达到最佳的反差。
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5图像解释
通过分别检测上述的各种信号,最终在显像管上形成的扫描图像与常见的透射电子显微镜及光学显微镜图像相似,扫描图像也是黑白程度不同(衬度)的画面,但不同的是二次电子像焦深大、立体感强。
正确理解图像衬度内容及形成原因是可靠地解释扫描电镜图像的关键。
扫描电镜图像衬度成因比较复杂,内容也较丰富,有形貌因素,也有电、光、磁及元素分布等因素,还有因试样性质不同以及在制样过程中引进的人工产物的干扰因素。
与透射电镜不同,扫描电镜图像衬度不是由透过试样的弹性散射电子,也不是将电子束从试样激发出来的信号直接进行聚焦成像,而是利用各种检测器检测入射电子束从试样不同微区激发出来的强度不同的电子或电磁波信号,最终在镜体外显像管上形成的。
能反映试样某种特征性质的有用信息,如表3-1所述。
入射电子束与试样相互作用发出的各种信号及其在不同微区的强度差异决定扫描电镜图像衬度,它是解释图像的依据。
下面我们重点讨论二次电子像衬度。
二次电子像衬度是入射电子束从试样表层不同部位激发的二次电子数量变化的反映。
电子束入射条件一定(加速电压、电子束流及束斑大小),二次电子发射量与试样入射角等有密切关系。
即决定于倾斜角效应,就是决定二次电子像衬度的主要内容。
5.1倾斜效应
电子束入射方向与试样表面成不同角度时,图像亮度,即二次电子发射量不同。
一般情况是电子束入射方向与试样表面方向一致时(垂直入射),图像亮度最小,与表面法线成一定角度入射(倾斜入射)时,图像亮度增大。
二次电子发射量与电子束对试样表面法线夹角θ的余弦倒数(1/cosθ)成正比。
任何观察试样表面都有着不同程度的起伏(凹凸),即对入射电子束呈现不同程度的倾斜,因而由各相应部位(微区)发生的二次电子量也不尽相同。
在显像管上的图像将呈现与试样起伏程度相对应的亮度差异,即试样倾斜(形貌)衬度。
由于二次电子能量只有几十电子伏特,在检测器正电场的作用下,从试样向各个方向发射的二次电子可全部被检测器收集。
在显像管上显示的二次电子图像上对应试样表面凹凸较大的部位,具有明显的立体感,凹凸较小(精细结构)的部位也容易分辨。
表面凹凸(形貌)衬度是二次电子像最重要的衬度内容。
5.2原子序数效应
二次电子产率随元素原子序数增大而增加。
在扫描图像上,试样表面原子序数小的部分的图像的亮度将比原子序数大的部分差。
背散射电子发生是与元素原子序数有着明显的依赖关系,所以图像衬度中也含有背散射电子像的衬度内容。
在观察试样二次电子像时,原子序数衬度是干扰衬度。
但对于生物试样或高分子材料,为防止试样损伤和荷电,提高二次电子发射量,改善图像质量,经常在试样表面均匀蒸涂一层原子序数较大的重金属膜,如Au、Pt等,变原子序数效应的不利因素为有利因素。
5.3边缘效应
入射电子束照射到试样边角、尖端或边缘时,二次电子可从试样侧面发出。
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即和一般的起伏部分相比二次电子产率明显增加,图像相应部分显得特别明亮,以致难以辨认所存在的形貌细节。
边缘效应实际上是倾斜效应的特例,同时与加速电压有明显依赖关系。
通过降低加速电压,可减小边缘效应的影响,有利于图像观察、拍照和改善高度方向(Z方向)表面形貌细节的辨认。
一般观察试样,在上述各种衬度效应中,倾斜效应对二次电子图像衬度贡献最大。
即二次电子像主要反映试样表面凹凸状况,是试样表面的形貌像。
其它效应产生的衬度统称为附加衬度,其中多半对形貌衬度起干扰作用。
如果按普通光学照明效果来理解扫描电镜的二次电子图像,这种图像应具有无影灯下看到的实体那样的照明效果,即二次电子像为一种无影象。
6样品制备
6.1块状试样制备
导电性材料
导电性材料主要是指金属,一些矿物和半导体材料也具有一定的导电性。
这类材料的试样制备最为简单。
只要使试样大小不得超过仪器规定(如试样直径最大为φ25mm,最厚不超过20mm等),然后用双面胶带粘在载物盘,再用导电银浆连通试样与载物盘(以确保导电良好),等银浆干了(一般用台灯近距离照射10分钟,如果银浆没干透的话,在蒸金抽真空时将会不断挥发出气体,使得抽真空过程变慢)之后就可放到扫描电镜中直接进行观察。
但在制备试样过程中,还应注意:
①为减轻仪器污染和保持良好的真空,试样尺寸要尽可能小些。
②切取试样时,要避免因受热引起试样的塑性变形,或在观察面生成氧化层。
要防止机械损伤或引进水、油污及尘埃等污染物。
③观察表面,特别是各种断口间隙处存在污染物时,要用无水乙醇、丙酮或超声波清洗法清理干净。
这些污染物都是掩盖图像细节,引起试样荷电及图像质量变坏的原因。
④故障构件断口或电器触点处存在的油污、氧化层及腐蚀产物,不要轻易清除。
观察这些物质,往往对分析故障产生的原因是有益的。
如确信这些异物是故障后才引入的,一般可用塑料胶带或醋酸纤维素薄膜粘贴几次,再用有机溶剂冲洗即可除去。
⑤试样表面的氧化层一般难以去除,必要时可通过化学方法或阴极电解方法使试样表面基本恢复原始状态。
非导电性材料
非导电性的块状材料试样的制备也比较简单,基本可以像导电性块状材料试样的制备一样,但是要注意的是在涂导电银浆的时候一定要从载物盘一直连到块状材料试样的上表面,因为观察时候电子束是直接照射在试样的上表面的。
6.2粉末状试样的制备
首先在载物盘上粘上双面胶带,然后取少量粉末试样在胶带上的靠近载物盘圆心部位,然后用吹气橡胶球朝载物盘径向朝外方向轻吹(注意不可用嘴吹气,以免唾液
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